A.在本征半导体中掺入施主杂质,可以获得N型半导体,掺杂后电子为多子,空穴为少子;
B.在本征半导体中掺入施主杂质,可以获得P型半导体,掺杂后电子为多子,空穴为少子;
C.在本征半导体中掺入受主杂质,可以获得N型半导体,掺杂后空穴为多子,电子为少子;
D.在本征半导体中掺入受主杂质,可以获得P型半导体,掺杂后电子为多子,空穴为少子。
第1题
A、纯净无杂质、结构理想无缺陷的半导体是本征半导体。
B、实际的半导体材料总是存在杂质和缺陷的,只要杂质和缺陷在一定限度内,就可看作是本征半导体。
C、本征半导体掺入杂质可形成杂质半导体。
D、本征半导体掺入施主杂质可形成n型半导体,掺入受主杂质可形成p型半导体。
E、n型半导体依靠导带电子导电。
F、p型半导体依靠价带空穴导电。
G、本征半导体中载流子由本征激发产生。
H、本征半导体中导带电子浓度等于价带空穴浓度。
I、施主杂质电离可以为半导体提供导电电子。
J、受主杂质电离可以为半导体提供导电空穴。
K、杂质半导体中载流子主要靠杂质电离产生。
L、杂质半导体中也存在本征激发的过程。
第2题
A、在一定的温度下,稳定状态下的半导体只有一个费米能级
B、准费米能级的分裂的大小直接反映出半导体偏离热平衡态的程度。
C、在一定的温度的非平衡状态下,载流子浓度积仍然是一个常数
D、少子准费米能级的偏离程度大于多子准费米能级的偏离程度
E、对于电子来说,导带费米能级和价带费米能级都是全局性的
F、在非平衡状态下,多子准费米能级的位置并没有发生偏离
第3题
A、杂质半导体的电阻率随温度升高单调下降
B、低温下,半导体的电阻率随温度的升高而下降,主要因为载流子浓度随温度升高而升高,且杂质电离散射几率随温度升高而下降
C、高温下,当本征激发称为主要矛盾时,其电阻率随温度升高而下降
D、当温度升高到杂质基本电离,且本征激发不显著时,晶格振动散射成为影响电阻率的主要因素
第4题
A、电阻率变化只受散射机构影响
B、温度很低时,电阻率随温度上升而下降,电离杂质散射起主要作用
C、温度较高时,电阻率随温度上升而上升,晶格振动散射起主要作用
D、温度继续升高时,阻率随温度上升而下降,电离杂质散射和晶格振动散射共同起主要作用
E、温度继续升高时,本征激发成为主要矛盾,导致阻率随温度上升而下降
第5题
A、半导体中的杂质会局部的破坏晶格的周期性势场,引起载流子的散射。
B、电离的杂质会引起载流子的散射,从而影响载流子的迁移率。
C、中性杂质不会对半导体产生影响。
D、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,由于所有的杂质都会破坏晶格周期性势场,所以对载流子迁移率的影响是两种杂质浓度之和。
E、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,由于杂质的补偿作用,对载流子浓度的影响是两种杂质浓度之差。
F、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,而且施主杂质浓度等于受主杂质浓度,由于杂质的补偿作用,该半导体材料属于本征半导体。
G、杂质会在半导体的禁带中引入能级。
H、如果杂质能级较浅,则杂质易于电离,可为半导体提供导电的载流子或改变半导体的导电类型,如掺入硅中的磷。
I、如果杂质能级较深,则杂质不易于电离,可能形成复合中心或陷阱中心。
J、如果杂质能级(深能级)的位置在EF附近,该杂质可有效促进载流子的复合,缩短非平衡载流子的寿命,起复合中心的作用,如掺入硅中的金。
K、如果杂质能级(深能级)的位置在Ei附近,该杂质可暂时收容非平衡载流子,延长了非平衡载流子的寿命,起陷阱中心的作用。
第6题
A、施主杂质在束缚态时带有负电荷
B、施主杂质在束缚态时带有正电荷
C、施主杂质的电离能一般远小于本征半导体的禁带宽度
D、P作为Si的施主时,是一种替位杂质
E、施主能级可位于禁带中
第7题
A、温度升高使半导体导电能力增强
B、微量杂质含量可以显著改变半导体的导电能力
C、适当波长的光照可以改变半导体的导电能力
D、导电能力介于导体与绝缘体之间
第8题
B、按掺杂区域的类型,三极管可分为NPN型和PNP型两大类
C、三极管有三个电极,分别为基极B、集电极C、反射极E
D、三极管有二个PN结,分别为集电结、反射结
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