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场效应管输出特性曲线如图LT3-1所示,试判断场效应管的类型,画出相应器件符号,确定VGS(th),并在图

场效应管输出特性曲线如图LT3-1所示,试判断场效应管的类型,画出相应器件符号,确定VGS(th),并在图上画出饱和区与非饱和区的分界线。

场效应管输出特性曲线如图LT3-1所示,试判断场效应管的类型,画出相应器件符号,确定VGS(th),

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第1题

用欧姆表的两测试棒分别连接JFET的漏极和源极,测得阻值为R1,然后将红棒(接负电压)同时与栅极相连

,发现欧姆表上阻值仍近似为R1,再将黑棒(接正电压)同时与栅极相连,得欧姆表上阻值为R2,且R2《R1,试确定该场效应管为N沟道还是P沟道。

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第2题

图LP3-15所示为分压式衰减电路,已知EMOS场效应管工作在非饱和区,若VI=200 mV,μnCoxW/(2l)=0.01mA

图LP3-15所示为分压式衰减电路,已知EMOS场效应管工作在非饱和区,若VI=200 mV,μnCoxW/(2l)=0.01mA/V2,VGS(th)=1.5 V,试分别求出VGS=2.5 V、3 V时的VO值,并进行分析。

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第3题

由有源电阻构成的分压器如图LP3-14所示,设各管μCoxW/(2l)相同,|VGS(th)|=1 V,λ=0,试指出各管工作

由有源电阻构成的分压器如图LP3-14所示,设各管μCoxW/(2l)相同,|VGS(th)|=1 V,λ=0,试指出各管工作区及其VO值。

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第4题

试用图解法确定图LP3-11(a)所示电路的IDQ和VDSQ,场效应管的输出特性曲线如图LP3-11(b)所示。

试用图解法确定图LP3-11(a)所示电路的IDQ和VDSQ,场效应管的输出特性曲线如图LP3-11(b)所示。

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第5题

试确定图LP3-10所示P沟道EMOSFET电路中的RD、RS。要求器件工作在饱和区,且ID=0.5 mA,VDS=-1.5 V,VG

试确定图LP3-10所示P沟道EMOSFET电路中的RD、RS。要求器件工作在饱和区,且ID=0.5 mA,VDS=-1.5 V,VG=2 V。已知μpCoxW/(2l)=0.5 mA/V2,VGS(th)=-1 V,设λ=0。

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第6题

设计图LP3-9所示电路,要求P沟道EMOS管工作在饱和区,且ID=0.5 mA,VD=3 V,已知μpCoxW/(2l)=0.5 mA/

设计图LP3-9所示电路,要求P沟道EMOS管工作在饱和区,且ID=0.5 mA,VD=3 V,已知μpCoxW/(2l)=0.5 mA/V2,VGS(th)=-1 V,λ=0。

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第7题

—N沟道EMOSFET组成的电路如图LP3-8所示,要求场效应管工作于饱和区,ID=1 mA,VDSQ=6 V,已知管子参

—N沟道EMOSFET组成的电路如图LP3-8所示,要求场效应管工作于饱和区,ID=1 mA,VDSQ=6 V,已知管子参数为μnCoxW/(2l)=0.25 mA/V2,VGS(th)=2 V,设λ=0,试设计该电路。

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第8题

双电源供电的N沟道增强型MOSFET电路如图LP3-7所示,已知VGS(th)=2 V,μnCox=200μA/V2,W=40μm,l=10

双电源供电的N沟道增强型MOSFET电路如图LP3-7所示,已知VGS(th)=2 V,μnCox=200μA/V2,W=40μm,l=10 μm,设λ=0,要求ID=0.4 mA,VD=1 V,试确定RD、RS值。

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第9题

在某放大电路中,分别测得两个三极管各电极的对地电位,如图LT2-1所示,试判断它们是NPN型管还是PNP

在某放大电路中,分别测得两个三极管各电极的对地电位,如图LT2-1所示,试判断它们是NPN型管还是PNP型管?是硅管还是锗管?并区分出e、b、c三个电极。

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第10题

图LT2-3(a)所示电路,已知VCC=12 V,VBE(on)=0.7 V,β=50,RB1=100 kΩ,RB2=20 kΩ,RC=4 kΩ,RE=1 kΩ,试

图LT2-3(a)所示电路,已知VCC=12 V,VBE(on)=0.7 V,β=50,RB1=100 kΩ,RB2=20 kΩ,RC=4 kΩ,RE=1 kΩ,试计算电路的直流工作点。

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