抛光对弧面宝石的工艺主要影响因素是（)

B、棱线磨损

C、烧痕

D、抛光纹

A、软垢

B、牙菌斑

C、牙石

D、获得性膜

E、色素

此题为判断题(对，错)。

B、CMP进行平坦化的同时也会引入新的缺陷

C、需要配套的设备、材料、工艺控制技术，这是一个需要开发、提高的系统工程

D、设备、技术、耗材比较便宜，维护也较为简单

A、接触面积小

B、桥体龈端高度抛光

C、桥体有足够的强度

D、与黏膜良好接触，不过紧压迫黏膜

E、悬空式桥体龈端与龈面保持一定的间隙，便于清洁

B、为了保证亮度和火彩，圆多面型宝石应尽量扩大台面面积

C、为了保证弧面型宝石的亮度，要注意抛光，改善光泽

D、某些半透明的宝石，将弧面的底面做成粗糙面，不利于增强亮度