对抛磨工艺的评价，分为对称性和抛光两个方面进行评价。（)

此题为判断题(对，错)。

此题为判断题(对，错)。

A.刮削

B.锉削

C.抛光

D.研磨

A.粗抛和细抛；直角

B.粗磨和细磨；直角

C.粗抛和细抛；锐角

D.粗磨和细磨；锐角

B、只要磨粒的浓度增加，则材料去除率也一直随之增加

C、通常情况下，当磨粒尺寸增加，抛光速率增加，但磨粒尺寸过小则易凝聚成团，使硅片表面划痕增加

D、当磨粒尺寸增加，抛光速率也随之增加，抛光质量也会随之提高

A、粗磨>细磨>抛光

B、抛光>粗磨>细磨

C、抛光>细磨>粗磨

D、粗磨>抛光>细磨

E、细磨>粗磨>抛光

A、涂

B、滿

C、磨

D、抛

B、2#

C、3#

D、3.5#

A.一

B.二

C.三

D.四