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[单选题]

下列处理工艺,适用于芯片制造项目产生的含氟废水预处理的是()。

A.隔油

B.CaCl2混凝沉淀

C.序批式活性污泥法

D.生物接触氧化法

答案
B、CaCl2混凝沉淀
A为除油工艺,C、D为生物处理工艺,主要针对COD、BOD、氟化钙沉淀。氟废水跟CaCl2反应有CaF2沉淀。
(本题为过时考点,只考察出题方式)
更多“下列处理工艺,适用于芯片制造项目产生的含氟废水预处理的是( )”相关的问题

第1题

在污水深度处理中,当采用混凝沉淀工艺时,还要产生()

A.初沉淀泥

B.活性污泥

C.化学污泥

D.腐殖污泥

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第2题

通常可采取()处理电镀废水

A.混凝法

B.氧化还原法

C.离子交换法

D.活性污泥法

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第3题

将含油污水打人隔油池或沉降罐内,利用油、机械杂质与水的密度差异,使它们分离达到净化污水的方法是()。

A.混凝沉淀隔油法

B.沉淀隔油法

C.浮选除油法

D.二级除油法

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第4题

以地面水为水源水往往不能满足饮用水水质标准的要求,常规处理工艺为()

A.过滤--混凝沉淀--消毒

B.过滤--澄清--消毒

C.混凝沉淀--过滤--消毒

D.消毒--过滤--澄清

E.消毒--混凝沉淀--过滤

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第5题

下面哪一处理单元不属于深度处理()。

A.混凝

B.活性污泥法

C.活性炭吸附

D.臭氧氧化

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第6题

废水的深度处理常用()。

A.生物氧化法

B.中和法

C.化学混凝法

D.活性炭吸附

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第7题

当水质条件为水库水,悬浮物含量小于100mg/L时,应采用的水处理工艺()

A.原水→筛网隔滤或消毒

B.原水→接触过滤→消毒

C.原水→混凝、沉淀或澄清→过滤→消毒

D.原水→调蓄预沉→混凝、沉淀或澄清→过滤→消毒

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第8题

澄清工艺通常包括混凝、沉淀和过滤,处理对象主要是水中的胶体杂质和溶解物质。()
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第9题

含二氯丙烷废水一般采用闪蒸-增稠工艺进行预处理。()
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第10题

活性污泥法处理废水时,剩余污泥的体积通常只占到处理废水体积的()

A.1%以下

B.1-5%

C.5-10%

D.10-15%

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第11题

水处理二车间中水混凝池使用的絮凝剂为()。

A.生物膜法

B.活性污泥法

C.生物转盘

D.AO

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