第1题
对高氯酸滴定法有干扰
A、糖类赋形剂
B、辅料氯化钠
C、赋形剂硬脂酸镁类
D、溶剂油
E、辅料枸橼酸
第3题
对EDTA法有干扰
A、糖类赋形剂
B、辅料氯化钠
C、赋形剂硬脂酸镁类
D、溶剂油
E、辅料枸橼酸
第4题
对高锰酸钾法有干扰
A、糖类赋形剂
B、辅料氯化钠
C、赋形剂硬脂酸镁类
D、溶剂油
E、辅料枸橼酸
第6题
氧化还原滴定法测定片剂含量时有干扰的常见赋形剂是
A.丙酮
B.滑石粉
C.维生素C
D.硬脂酸镁
E.淀粉
第7题
片剂中赋形剂蔗糖可能干扰的测定方法为
A、酸碱滴定法
B、氧化还原法
C、配位滴定法
D、双相滴定法
E、沉淀滴定法
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