第3题
A.50
B.60
C.80
D.100
第5题
第7题
A.曝气生物滤池
B.Fonton-碳滤
C.臭氧氧化
D.滤布滤池
第8题
A.曝气生物滤池
B.Fonton-碳滤
C.臭氧氧化
D.滤布滤池
第9题
顺达公司拟在本省某开发区内建设一座电子元器件厂。该省级开发区有集中的污水处理厂和供热系统,其他环保基础设施也较完善,目前开发区污水处理厂的设计处理能力为10万m3/d,实际处理能力为6.5万m3/d。污水处理厂接管水质要求为COD350mg/L、NH3-N25mg/L、TP6mg/L,其他水质标准应当满足《污水综合排放标准》(GB8978-1996)表1及表4三级排放标准(氟化物20mg/L、总铜2.0mg/L、总砷0.5mg/L)。电子元器件生产以硅片为基材,经氨水清洗、氢氟酸或硫酸蚀刻砷化氢掺杂、硫酸铜化学镀等工序得到最终产品。其中掺杂工序和化学镀工序流程如图1所示。经过工程分析可知,拟建项目在生产过程中产生的清洗废水、蚀刻废水、尾气洗涤塔废水、化学镀废水将经过预处理后进入中和池,中和池出水排入开发区污水处理厂,废水预处理后的情况参见表1。
氨水清洗工序产生的清洗废水中含氨量为0.02%,为降低废水中氨的浓度,拟采取热交换吹脱法除氨,氨的吹脱效率80%,吹脱出的氨经15m高排气筒排放。《恶臭污染物排放标准》(GB14554-93)中规定:15m高排气筒氨排放量限值为4.9kg/h。
第10题
A.混合后受纳水体COD浓度满足《城镇污水处理厂污染物排放标准》(GBl8918—2002)二级标准的要求
B.混合后受纳水体COD浓度不满足《地表水环境质量标准》(GB3838-2002)V类水域的要求
C.混合后受纳水体COD浓度满足《地表水环境质量标准》(GB3838—2002)V类水域的要求
D.无法确定
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