A.使用高温火焰
B.加人释放剂
C.加入保护剂
D.采用离子交换法分离干扰物
第1题
第2题
第3题
A、加入释放剂
B、加入保护剂
C、化学分离干扰物质
D、若仪器配置的是石墨炉原子化系统,可以添加基体改进剂
第4题
A、加人保护剂
B、用标准加入法定量
C、加人释放剂
D、氘灯校正
第5题
第6题
第7题
A.背景吸收 B.电离干扰 C.基体干扰 D.化学干扰
第8题
B.加入保护剂
C.采用标准加入法
D.扣除背景
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