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[单选题]

以下可用来制备砷化镓薄膜的技术有()。

A.液相外延技术

B.金属有机化学气相沉积技术

C.分子束外延技术

D.以上都是

暂无答案
更多“以下可用来制备砷化镓薄膜的技术有()。”相关的问题

第1题

以下使用了砷化镓薄膜太阳能电池的有( )。

A、神州八号

B、神州九号

C、神州十号

D、神州十一号

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第2题

可用于制备二氧化硅薄膜的CVD 方法有哪些?

A、APCVD

B、LPCVD

C、PECVD

D、LCVD

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第3题

直流溅射和射频溅射都可以用来制备金属薄膜。
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第4题

简述MOCVD制备功能薄膜的原理(5分) 说说MOCVD在制备LE...

简述MOCVD制备功能薄膜的原理(5分) 说说MOCVD在制备LED时,应该控制哪些参数(5分)

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第5题

以下各项不属于最常用的金属薄膜制备(Metal Film preparation)方法有:

A、PVD(物理气相淀积)

B、Sputtering(溅射)

C、Thermal Oxidation(热氧化)

D、Evaporation(蒸发)

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第6题

利用LPE技术生长的砷化镓外延层厚度不能精确控制,薄膜均匀性差,生长1微米以下的薄膜比较困难。
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第7题

以下晶体硅薄膜的制备方法中,所需温度最低的是()。

A、热辅助化学气相沉积法

B、液相外延法

C、近空间气相输运法

D、离子辅助沉积法

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第8题

溅射比蒸发制备的薄膜的台阶覆盖比要好。()

此题为判断题(对,错)。

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第9题

制备单晶硅薄膜方面的主要工艺方法是().

A.汽-固

B.液-固

C.固-固

D.汽-液

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第10题

非晶硅薄膜材料的制备主要有哪些方法?
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