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[单选题]

以下材料中,属于直接禁带半导体的是?

A.GaAs

B.Si

C.Ge

D.GaP

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第1题

在常温下的宽禁带半导体中,有效的复合中心是

A、禁带中央附近的深能级

B、半导体材料表面

C、杂质的浅能级

D、杂质

E、缺陷

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第2题

较之于硅材料制作的电力电子器件,采用SiC等宽禁带半导体材料制作的电力电子器件具有明显的优势,以下描述哪一项是错误的?

A、宽禁带半导体材料的电力电子器件具有比硅器件高得多的耐受高电压的能力

B、宽禁带半导体材料的电力电子器件具有比硅器件更大的过流能力

C、宽禁带半导体材料的电力电子器件具有比硅器件更快的开关速度

D、宽禁带半导体材料的电力电子器件具有比硅器件更低的成本

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第3题

下列元素中属于半导体材料的是

A、钛

B、镓

C、锗

D、硅

E、钠

F、紫铜

G、铅

H、硫

I、镁

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第4题

下列元素中属于半导体材料的是

A、镓

B、锡

C、锗

D、钛

E、钒

F、铁

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第5题

【单选题】以下不属于直接带隙半导体的是( )。

A、GaAs

B、CdTe

C、Si

D、CuInSe2

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第6题

下面选项中不属于半导体材料的是()

A、硅

B、金属铝

C、氮化镓

D、氮化铝

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第7题

半导体材料中存在3个能量区域:价带、导带和禁带,所谓粒子数翻转指的是电子数目()

A.价带多于禁带

B.导带多于价带

C.价带多于导带

D.导带多于禁带

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第8题

在以下选项中,不属于电阻式半导体气敏传感器材料的是( )。

A、SnO2

B、MnO2

C、ZnO

D、CO

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第9题

硅是半导体产业中最常用的半导体材料,以下()选项属于硅材料的优点。
A、易于进行腐蚀加工

B、带隙大小适中、硅表面上很容易制备高质量的介电层SiO2

C、易于通过沉积工艺制备出单晶硅、多晶硅和非晶硅薄膜材料

D、易于进行n型和p型掺杂

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第10题

已知半导体能带中,费米能级位于禁带中心的上方,则

A、这是P型半导体

B、费米能级越高,该半导体的杂质浓度越高

C、该半导体中的少子是电子

D、该半导体中电子和空穴浓度相同

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