有关控制通道时间常数对控制性能指标的影响，以下叙述错误的有：（)

A、在其他因素相同条件下，KfF越大，余差越大。

B、进入系统的扰动位置远离被控变量，等效于扰动通道传递函数中的时滞增大。

C、进入系统的扰动位置远离被控变量，等效于扰动通道传递函数中的时间常数增大。

D、在其他因素相同条件下，KfF越大，最大偏差越大。

A、过程增益Ko增加，余差减小，最大偏差减小。

B、过程增益Ko增加，控制作用增强，但系统稳定性变差。

C、振荡频率增大，回复时间变短，动态响应变快。

D、在其他因素相同条件下，过程增益Ko越大，克服扰动的能力也越强。

A、被控变量变化不能及时送到控制器，控制器输出不能及时引起操纵变量变化，控制作用不能及时使被控变量变化。

B、时滞τo越大，系统余差越大。

C、时滞τo使控制系统的频率特性变化。

D、使控制不及时，控制品质变差。

当广义过程控制通道时间常数较大或容量滞后较大时，应引入微分调节。()

当广义过程控制通道时间常数较小、负荷变化不大且工艺要求允许有静差时，应选用P调节。()

关于通道、设备控制器和设备之间的关系，以下叙述中正确的是（ ）。

A．设备控制器和通道可以分别控制设备

B．对于同一组输入／输出命令，设备控制器、通道和设备可以并行工作

C．通道控制设备控制器、设备控制器控制设备工作

D．以上答案都不对

对于控制通道时间常数小, 而负荷变化较大时, 加微分作用和积分作用都易引起振荡, 那么尽量不要加。如果控制通道时间常数很小, 可采用反微分作用减缓, 提高控制质量。()

下列有关通道与阵元的关系叙述中，错误的是

A、所有通道均在同一时间起作用

B、振子数与通道数对应

C、振子通道越多图像质量越好

D、阵元越多声束聚焦效果越好

E、控制各阵元的激励电压实施延时聚焦

选择被控变量应尽量使控制通道的放大系数小、时间常数大、滞后时间尽量小。()

下面对过程的控制质量没有影响的是(?)

A、控制通道放大倍数Ko

B、扰动通道放大倍数Kf

C、扰动通道时间常数

D、扰动通道纯滞后时间