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[单选题]

常规硅太阳电池工艺中,形成电池PN结的主要方法是()。

A.扩散法

B. 离子注入法

C. 合金法

D. 分离法

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更多“常规硅太阳电池工艺中,形成电池PN结的主要方法是()。 A. 扩散法 B. 离子注入法 C. 合金法”相关的问题

第1题

常规硅太阳电池工艺中,形成电池PN结的主要方法是合金法。()

常规硅太阳电池工艺中,形成电池PN结的主要方法是合金法。()

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第2题

晶体硅太阳电池扩散制结只在一面形成pn结()
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第3题

微晶硅薄膜太阳能电池的工作原理与硅太阳电池一样,也是基于PN 结的 效应。
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第4题

将下列硅太阳电池发展历程一一对应。1).1958年A、硅太阳电池于1958年首先在航天器上得到应用B、把

将下列硅太阳电池发展历程一一对应。

1).1958年

A、硅太阳电池于1958年首先在航天器上得到应用

B、把表面钝化技术、降低接触复合效应、后处理提高载流子寿命、改进陷光效应引入到电池的制造工艺中

C、把背表面场、细栅金属化、浅结表面扩散和表面织构化开始引人到电池的制造工艺中

2).20世纪70年代初

A、硅太阳电池于1958年首先在航天器上得到应用

B、把表面钝化技术、降低接触复合效应、后处理提高载流子寿命、改进陷光效应引入到电池的制造工艺中

C、把背表面场、细栅金属化、浅结表面扩散和表面织构化开始引人到电池的制造工艺中

3).20世纪80年代初

A、硅太阳电池于1958年首先在航天器上得到应用

B、把表面钝化技术、降低接触复合效应、后处理提高载流子寿命、改进陷光效应引入到电池的制造工艺中

C、把背表面场、细栅金属化、浅结表面扩散和表面织构化开始引人到电池的制造工艺中

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第5题

非晶硅太阳电池相对与晶体硅太阳电池的优点在于()。

A.易于形成大规模生产能力以及大面积化生产

B.材料和制造工艺成本低

C.易实现柔性电池

D.具有S-W效应

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第6题

扩散工序的工艺目的是在P型硅表面扩散形成一层N型硅,形成PN结()
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第7题

LPCVD淀积SiO2温度适中(700-800℃),对杂质再分布影响小, 。

A.适用于GaAs材料

B.适用于已形成PN结但还未做金属化的硅器件工艺

C.适应于Al材料

D.适用于已形成PN结的硅器件工艺

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第8题

非晶硅太阳电池中也存在晶体硅太阳电池中一样的pn节结构。()
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第9题

考虑一个硅PN结太阳电池,其面积为2cm2.若太阳电池掺杂浓度为Na=1.7×1016cm-3,Nd=5×1019cm-3)且已知τn=10μs,

考虑一个硅PN结太阳电池,其面积为2cm2.若太阳电池掺杂浓度为Na=1.7×1016cm-3,Nd=5×1019cm-3)且已知τn=10μs,τp=0.5μs,Dn=9.3cm2/s,Dp=2.5cm2/s,IL=95mA.在室温下:

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第10题

扩散法是目前硅太阳电池的p一n结形成的主要方法。()
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